चीनलाई चिपसेट निर्माणको लागि आवश्यक २८ नानोमिटर पूर्ण निर्माण प्रक्रियामा सफलता

काठमाडौं ।

चिनियाँ उत्पादकले चिप बनाउन आवश्यक पर्ने महत्वपूर्ण २८ नानोमिटरको उत्पादनमा सफलता हासिल गरेको जनाएको छ।

चाइना इलेक्ट्रोनिक्स टेक्नोलोजी ग्रुप कर्पोरेशन (सीईटीसी) को एक सहायक कम्पनीले २८ नानोमिटरको आयन इम्प्लान्टरको पूर्ण निर्माण प्रक्रिया हासिल गरेको बताएको छ।

आयन प्रत्यारोपण चिप निर्माणमा प्रमुख उपकरण हो। वर्तमानमा, २८ नानोमिटर निर्माण प्रक्रिया चिप एप्लिकेसनको क्षेत्रमा फराकिलो कभरेजको साथ परिपक्व प्रक्रिया हो।

सीईटीसीको सहायक इलेक्ट्रोनिक्स उपकरण समूहले अप्टिकल पथ, नियन्त्रण, र सफ्टवेयर जस्ता मुख्य मोड्युलहरूको मुख्य प्रविधिहरूमा लगातार सफलताहरू बनाएको छ। यसका साथै मध्यम प्रवाह, उच्च प्रवाह, उच्च ऊर्जा प्रत्यारोपण र तेस्रो-पुस्ता सेमिकण्डक्टरहरू सहित आयन प्रत्यारोपण उत्पादन ढाँचाहरूको पूर्ण श्रृंखला बनाउने सीईटीसीले भनेको छ।

२८ न्यानोमिटर निर्माण प्रक्रियाको पूर्ण कभरेजले प्रभावकारी रूपमा घरेलू चिप उत्पादन र निर्माण र परिपक्व उत्पादन प्रक्रियाहरूमा चीनको एकीकृत सर्किट निर्माण उद्योगको औद्योगिक सुरक्षाको ग्यारेन्टी दिने शिन्ह्वाले रिपोर्टमा जनाएको छ।